光刻机：券商明确上海微电子已有浸没式样机

    光刻机国产化进展

    海外采购现状：券商调研表示ASML的1980系列目前新下单交期将长达2-3年，中国厂商产线存量的1980及以下型号将继续给予维保支持。其1980系列 可支持3D NAND 2XXL,逻辑28/14nm,DRAM17/19nm制造。国产化进展：券商明确上海微电子已有浸没式样机。另有龙头设计公司亦在自研浸没式光刻机。

    国产浸没式的难点在于：双工件台的精度，光栅等光学部件的精度，控制软件和算法等。镜片已经做得比较成熟。

     相关标的：

     腾景科技：公司多波段合分束器用于光刻机的光学系统，目前已量产入半导体微电子设备厂。

     茂莱光学：公司DUV光学透镜用于光刻机的光学系统照明、曝光模块，目前已供应上海微电子等。

     炬光科技：目前给德国A客户供应光刻机的曝光系统的光场匀化器，券商预计未来3年有望维持三位数增长。

     福晶科技：主要研发生产光刻机的光源和光学元器件。苏大维格：公司研发生产投影式光刻机里光栅部件。